Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

최신논문 논문목록
논문검색
논문 상세 검색
학회 연락처

상세보기

  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 38(2); 2005
  • Article

상세보기

KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2005;38(2):60-64. Published online: Nov, 30, -0001

PDF

고밀도 플라즈마 화학 증착 장치를 이용한 $TiB_2$ 박막 제조

  • 이승훈;남경희;홍승찬;이정중;
    서울대학교 공과대학 재료공학부 플라즈마 표면공학 연구실;서울대학교 공과대학 재료공학부 플라즈마 표면공학 연구실;엘지전자 생산기술원;서울대학교 공과대학 재료공학부 플라즈마 표면공학 연구실;
초록

The ICP-CVD (inductively coupled plasma chemical vapor deposition) process was applied to the deposition of $TiB_2$ films. For plasma generation, 13.56 MHz r.f. power was supplied to 2-turn Cu coil placed inside chamber. And the gas mixture of

키워드 Titanium diboride;ICP;CVD;