Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 38(3); 2005
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2005;38(3):89-94. Published online: Nov, 30, -0001

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Co/Ni 복합 실리사이드 제조 온도에 따른 측벽 스페이서 물질 반응 안정성 연구

  • 송오성;김상엽;정영순;
    서울시립대학교 신소재공학과;서울시립대학교 신소재공학과;서울시립대학교 신소재공학과;
초록

We investigate the reaction stability of cobalt and nickel with side-wall materials of $SiO_2;and;Si_3N_4$. We deposited 15nm-Co and 15nm-Ni on $SiO_2(200nm)/p-type$ Si(100) and $Si_3N_4(70 nm)/p-type$ Si(100). The samples

키워드 Cobalt nickel silicide;Composite silicide;Side-Wall material;