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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2005;38(4):144-149. Published online: Nov, 30, -0001
ZnO박막을 R.F. sputtering방법으로 R.F Power와 기판온도를 공정변수로 하여 Si(100)과
키워드 Stress;ZnO thin films;R.F. magnetron sputtering;