Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 39(5); 2006
  • Article

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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2006;39(5):235-239. Published online: Nov, 30, -0001

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Al합금에서 질소이온주입에 의한 질화물 형성과 기계적 특성 향상

  • 정재필;이재상;김계령;최병호;
    UST 가속기 및 빔 나노공학과;한국원자력연구소 양성자기반공학 기술개발사업단;한국원자력연구소 양성자기반공학 기술개발사업단;한국원자력연구소 양성자기반공학 기술개발사업단;
초록

The aluminum nitride(AlN) layer on Al7075 substrate has been formed through nitrogen ion implantation process. The implantation process was performed under the conditions : 100 keV energy, total ion dose up to $2{ imes}10^{18};ions/cm^2$. XRD a

키워드 Al7075;Ion implantation;AlN;Friction;Hardness;Surface modification;