Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 40(3); 2007
  • Article

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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2007;40(3):113-116. Published online: Nov, 30, -0001

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DOI : 10.5695/JKISE.2007.40.3.113

반응성 RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 MgO 기판위에 증착한 TiO2 박막의 구조와 광촉매 특성

  • 이정철;송풍근;
    부산대학교 재료공학부;부산대학교 재료공학부;
초록

Titanium dioxide ($TiO_2$) films were deposited by RF reactive magnetron sputtering on non-alkali glass and single crystal MgO (100) substrate at substrate temperature of $400^{circ}C$. Micro structures of $TiO_2$ films we

키워드 Titanium dioxide;Photocatalyst;Crystallinity;Reactive sputtering;