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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 41(6); 2008
  • Article

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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2008;41(6):269-273. Published online: Nov, 30, -0001

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DOI : 10.5695/JKISE.2008.41.6.269

BCl3/Cl2/Ar 플라즈마에서의 Na0.5K0.5NbO3 박막의 표면반응

  • 김동표;엄두승;김관하;우종창;김창일;
    중앙대학교 전자전기공학부;중앙대학교 전자전기공학부;중앙대학교 전자전기공학부;중앙대학교 전자전기공학부;중앙대학교 전자전기공학부;
초록

The etch of $(Na_{0.5}K_{0.5})NbO_3$ (NKN) thin film was performed in $BCl_3/Cl_2/Ar$ inductively coupled plasma. It was found that the 1sccm addition $BCl_3$ (5%) into $Cl_2/Ar$ plasma caused a non-monotonic be

키워드 NKN;ICP;Etch;XPS;