Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 43(6); 2010
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2010;43(6):266-271. Published online: Nov, 30, -0001

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DOI : 10.5695/JKISE.2010.43.6.266

Copper 함량에 따른 Mo-Cu-N 박막의 미세구조 변화에 대한 연구

  • 신정호;최광수;왕계민;김광호;
    부산대학교 재료공학부;부산대학교 재료공학부;부산대학교 하이브리드소재 솔루션 국가핵심연구센터;부산대학교 재료공학부;
초록

Ternary Mo-Cu-N films were deposited on Si wafer substrates with various copper contents by magnetron sputtering method using Mo target and Cu target in $Ar/N_2$ gaseous atmosphere. As increasing $N_2$ pressure, the microstructure of

키워드 Mo-Cu-N film;Physical vapor deposition;X-ray photoelectron spectroscopy;Microstructure;