Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 45(2); 2012
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2012;45(2):53-60. Published online: Nov, 30, -0001

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DOI : 10.5695/JKISE.2012.45.2.053

Al doped ZnO 박막 증착을 위한 모듈레이티드 펄스 스퍼터링

  • 양원균;주정훈;
    군산대학교 공과대학 신소재공학과, 플라즈마 소재 응용 센터;군산대학교 공과대학 신소재공학과, 플라즈마 소재 응용 센터;
초록

Modulated Pulse Power (MPP) magnetron sputtering is a new high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) technology which overcomes the low deposition rate problem by modulating the pulse voltage shape, amplitude, and the duration. Highly ionized magnetro

키워드 AZO;TCO;Modulated pulse power;Sputtering;