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- KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
- Volume 47(6); 2014
- Article
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2014;47(6):311-315. Published online: Nov, 30, -0001
DOI : 10.5695/JKISE.2014.47.6.311
반응성 DC 마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 ITO 박막의 전기적 특성 평가
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부산대학교 재료공학부;부산대학교 재료공학부;부산대학교 재료공학부;
초록
Indium tin oxide (ITO) thin films (30 nm) were deposited on PET substrate by reactive DC magnetron sputtering using In/Sn(2, 5 wt.%) metal alloy target without intentionally substrate heating during the deposition under different DC powers of 70 ~ 110 W.
키워드 ITO;Reactive DC sputtering;Thin film;Post annealing;