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- KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
- Volume 48(6); 2015
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2015;48(6):360-370. Published online: Nov, 30, -0001
DOI : 10.5695/JKISE.2015.48.6.360
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
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성균관대학교 신소재공학부;성균관대학교 신소재공학부;성균관대학교 신소재공학부;성균관대학교 신소재공학부;
초록
As the size of the semiconductor devices shrinks to nanometer scale, the importance of plasma etching process to the fabrication of nanometer scale semiconductor devices is increasing further and further. But for the nanoscale devices, conventional plasma
키워드 Pulse plasma;Pulsing;Etch;MRAM;DRAM;