Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 50(3); 2017
  • Article

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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2017;50(3):192-197. Published online: Nov, 30, -0001

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UBM 마그네트론 스퍼터 시스템을 이용한 구리 타겟의 이온전류밀도 향상 연구

  • 강충현;주정훈;
    군산대학교 공과대학 신소재공학과;군산대학교 공과대학 신소재공학과;
초록

A 6-way-cross consisting of a 2.75-inch CF flange was used as a main chamber on a PFEIFFER VACUUM TMP station based on a 67 l / sec turbo molecular pump and a diaphragm pump to produce a magnet array with a volume ratio of 5.5: 1.A 1-inch diameter copper

키워드 UBMS(Unbalanced Magnetron Sputtering);Sputtering;Ion current density;