Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 52(6); 2019
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2019;52(6):342-349. Published online: Nov, 30, -0001

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반응성 RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 TiNx 상온 성막에 있어서 기판 상의 펄스상 직류 바이어스 인가 효과

  • 김세기;
    한국세라믹기술원 이천분원 엔지니어링세라믹센터;
초록

Titanium nitride(TiN) thin films have been deposited on PEN(Polyethylene naphthalate) substrate by reactive RF(13.56 MHz) magnetron sputtering in a 25% N2/Ar mixed gas atmosphere. The pulsed DC bias voltage of -50V on substrates was applied wit

키워드 $TiN_x$;RF reactive sputtering;Pulsed substrate DC Bias;XPS depth profile;