Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 18(3); 1985
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 1985;18(3):116-124. Published online: Nov, 30, -0001

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CVD에 의한 $SnO_2$ Film 제조시 증착조건이 Film의 증착속도 및 물리적 성질에 미치는 영향

  • 이동윤;이상래;
    부산대학교 공과대학 금속공학과;부산대학교 공과대학 금속공학과;
초록

Chemical vapor deposition of $SnO_2$ on Pyrex glass substrate has been investigated using $SnCl_4$ and Oxygen at relatively low temperatures(300-500$^{circ}C$). The critical flow rate, which delineated the surface reaction

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