Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

학회 연락처

상세보기

  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 31(2); 1998
  • Article

상세보기

KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 1998;31(2):109-116. Published online: Nov, 30, -0001

PDF

Ozone Assisted-MOCVD로 제작된 산화주석막의 전기적 광학적 특성

  • 배정운;이상운;송국현;박정일;박광자;염근영;
    성균관대학교 재료공학과;명지대학교 화학과;국림기술품질원 무기화학과;국림기술품질원 무기화학과;국림기술품질원 무기화학;성균관대학교 재료공학과;
초록

Highly transparent conductive pure and fluorine-doped tin oxide(FT0, $SnO_2$ : F) films have been prepared by low pressure metal organic chemical vapor deposition (LP-MOCVD) from various mixtures of tetramethyitin(TMT) with oxygen or oxygen con

키워드