Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

최신논문 논문목록
논문검색
논문 상세 검색
학회 연락처

상세보기

  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 32(2); 1999
  • Article

상세보기

KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 1999;32(2):165-171. Published online: Nov, 30, -0001

PDF

CF$_4$/O$_2$ 혼합기체 플라즈마를 이용한 이산화 우라늄의 표면식각반응

  • 민진영;김용수;
    한양대학교 원자력공학과;한양대학교 원자력공학과;
초록

The etching reaction of $UO_2$ in $CF_4/O_2$ gas plasma is examined as functions of $CF_4/O_2$ ratio, plasma power, and substrate temperature at up to $370^{circ}C$ under the total pressure of 0.30 Torr. It is f

키워드