Aug, 31, 2024

Vol.57 No.4

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  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 33(2); 2000
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KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 2000;33(2):69-76. Published online: Nov, 30, -0001

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rf 플라즈마 화학기상증착기의 제작 및 특성

  • 김경례;김용진;현준원;이기호;노승정;최병구;
    단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 사범학부 과학교육전공;
초록

The rf plasma chemical vapor deposition is a common method employed for diamond or amorphous carbon deposition. Diamond possesses the strongest bonding, as exemplified by a number of unique properties-extraordinary hardness, high thermal conductivity, and

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